第101节 (第1/2页)

换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。
  盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
  当下有?人反驳：“都是?纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了?！”
  难度多大？
  最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不?能超过一根头发的直径。
  而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。
  全球只有?德国蔡司这家传承三?代?以上的企业才造得出这种反射镜。
  当然，反射镜不?对华出口。
  盛明安：“不?用担忧反射镜能不?能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”
  “数据、模型，不?管失败成功，统统记录下来。”
  盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不?容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。
  他胸有?成竹，心有?沟壑。
  他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个?人退怯、不?自信的心。
  “杜颂，打开你的modelica先进?行?初步的超精密激光器建模仿真。”
  modelica是?一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。
  杜颂：“已在创建。”
  他领着自己小组成员低头忙碌。
  “雷客，你调整一下光路结构。”
  “好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果?计算查找表修正光与图案。
  盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
  驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个?技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进?的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个?问题。
  可盛明安不?清楚。
  他虽不?愿用前世记忆盗窃他人成果?提前制造出国产光刻机，可前世是?他完美解决euv产能低的问题，因?此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
  以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
  ***
  15年5月份左右，国际半导体发生了?一件大事。
  asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
  此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不?休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不?断，基本都是?讨论asml这一举措将带来怎么?的影响。
  【光刻巨人：asml真正的崛起！】
  国内科技网对asml的新闻标题被搬到国内电子发烧友论坛，论坛主搬来这标题就已经表明了?他对未来全球半导体地位的划分认可。
  【如标题所说，从今以后，asml是?唯一的光刻巨人！】
  【佳能、尼康的时?代?消失了?，光刻机百花齐放共竞争的时?代?一去不?复返，将来只有?asml一骑绝尘的身影！】
  【虽然不?想承认，但欧美又在一个?重要的领域里实现了?科技霸权！】
  【诸位，配合英特尔、高通今年年初发布的将于15年实现14nm核心处理器、年末实现10nm核心处理器的新闻发布会食用，而国产光刻机还停留在365nm光波长的第三?代?光刻机技术节点！】
  【拉开了?两代?，落后二十年。】
  【华国被死死扼住半导体产业的喉咙……】
  【感到窒息。】
  另一个?贴没有?这么?丧气，但基本是?在吹asml，回顾asml的历程，曾经也不?过是?个?半生不?死的小公司……
  【谁还能记得曾经的asml濒临倒闭？】
  【那时?候的尼康和佳能才是?霸权半导体领域的大佬，可惜封杀了?台积电林大佬的浸润技术emmmm结果?最后被asml捡漏。】
  【asml的崛起之路从这一步开始[滑稽]。】
  【命运真是?奇妙，谁能料到最后会是?名不?见经传的阿斯麦尔抢先一步研发出第五代?光刻机？】
  【小声插一句，我国有?机会研发14nm光刻机吗？】
  【？？asml肯卖给我们一台euv就偷笑?了?，还自主研发？做梦呢！】
  【肯定告诉你：有?！二十年后！】
  【不?过那个?时?候的半导体可能已经发生翻天覆地的变化，摩尔定律失效，现有?的光刻机技术臻至极限不?再寸进?，或许出现了?新的机器替代?光刻机，量子定律取代?摩尔定律……我们再次被甩开二十年。】
  【也不?必这么?悲观，或许二十年后，华国光刻机技术实现超英赶美